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会告

《第23回ディスプレイ国際ワークショップ/アジアディスプレイ2016》

=The 23rd International Display Workshops
in conjunction with Asia Display 2016 (IDW/AD '16) =

会 期 :
2016年12月7日(水)~9日(金)
会 場 :
福岡国際会議場(福岡市博多区)
主 催 :
映像情報メディア学会(ITE)、The Society for Information Display(SID)

[会議用語]

英語

[参加申込み]

URL http://www.idw.or.jp/

[各種期日]

・Technical Summary 投稿締切日:
6月23日
・論文採否通知:
7月19日
・Camera ready 原稿締切日:
9月 1日
・Late-News 予稿締切日:
9月23日
・早期割引登録締切日:
10月28日
・事前参加登録締切日:
11月25日

[問い合わせ]

IDW '16 事務局(バイリンガル・グループ内)
〒102-0074 東京都千代田区九段南3-3-6
TEL: 03-3263-1345  FAX: 03-3263-1264
E-mail: idw@idw.or.jp
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《第218回フォトポリマー懇話会・第220回JOEM 合同講演会》

日 時 :
2016年12月14日(水)13:00~16:50
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『光を利用するユニークな接着剤』

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

[趣旨]
接着剤は民生・産業用途に広く使用され、もの作りには欠かせない材料です。特に、製造工程において最終製品には残らないプロセス材料として使用される接着剤は仮止め接着剤と呼ばれ非常に有用です。仮止め接着剤は、必要なときに接着機能を発揮し、光など外部刺激で簡単に接着力を失い容易に剥がす事の出来る非常にユニークな特長を持っています。今回は、このユニークな特徴を生み出す材料設計・メカニズムなどに関して紹介して頂きます。

【プログラム】
1. 13:00~14:10 「フォトクロミック反応を利用した光誘起固液相転移と接着材への展開」 産業技術総合研究所 則包 恭央 氏
<キーワード>アゾベンゼン、フォトクロミズム、光異性化、結晶、液体、相転移、接着
14:10~14:20 休 憩(10分)
2. 14:20~15:30 「反応性高分子の精密合成と光機能性接着材料への応用」 大阪市立大学 佐藤 絵理子 氏
<キーワード>光酸発生剤、光架橋、光分解、精密重合
15:30~15:40 休 憩(10分)
3. 15:40~16:50 「外部刺激を用いる剥離性粘着剤の開発」 大阪府立産業技術総合研究所 舘 秀樹 氏
<キーワード>易剥離、粘着剤、光分解性架橋剤、UVレオメータ、外部刺激
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《第219回講演会》

日 時 :
2017年1月27日(金)13:00~17:00
会 場 :
I-siteなんば C1
大阪市浪速区敷津東2丁目1番41号 南海なんば第1ビル2階
テーマ :
『次世代太陽電池の新潮流』

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
1. 13:00~14:00 「高効率・高耐久な有機薄膜太陽電池に向けた半導体ポリマーの開発」 広島大学 尾坂 格 氏
<キーワード>有機薄膜太陽電池、半導体ポリマー、共役系ポリマー
14:00~14:10 休 憩(10分)
2. 14:10~15:10 「ペロブスカイト太陽電池:真の有機無機ハイブリッドを目指して」 京都大学化学研究所 若宮 淳志 氏
<キーワード>ペロブスカイト、有機半導体材料、太陽電池、分子設計、高純度化
15:10~15:20 休 憩(10分)
3. 15:20~16:20 「高効率高分子太陽電池のための新戦略」 京都大学 大北 英生 氏
<キーワード>高分子太陽電池、近赤外光、三元ブレンド、高分子ブレンド、一重項分裂
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《協賛講演会》 =第150回ラドテック研究会講演会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2017年1月31日(火)13:00~16:40
場 所 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館 17階/記念講堂
<講師と演題>
(1) 13:00~13:50
「ライトメルト接着材料の開発 〜光剥離と耐熱接着の両立〜」 京都大学大学院 齊藤 尚平 氏
(2) 13:50~14:40
「光反応を利用した刺激応答性ポリマーの設計」 関西大学 宮田 隆志 氏
14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(3)15:00~15:50
「UV硬化に次いで市場で広がっている新規UV表面処理技術」 セン特殊光源株式会社 菊池 清 氏
(4) 15:50~16:40
「省エネUVシステムの変遷と印刷物(仮)」 東洋インキ株式会社 沖野 雄一 氏
◆17:00~18:30
交流会・ミニ展示会 大会議室にて

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2017年1月5日(木)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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