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会告


《第32回フォトポリマー講習会》

フォトポリマー講習会も本年で32回目の開催となりました。本年もより充実した内容の講習会となりますよう、各分野の先生方にお忙しい中ご出講いただきます。会員の皆様からいただきましたアンケートから、フォトポリマーに関する基礎分野に加えて、お仕事に携わる中で遭遇される困難や課題の解決に繋がる応用分野の双方で構成された講習会となっております。基礎と応用を明確に線引きすることはできませんが、両方をお聴き頂きフォトポリマーの全体像をご理解いただければ幸いです。本講習会は今年度もオンラインでの開催を予定しております。各日の最後に総括討議の時間を設定し、ご都合のつく講師の先生方に参加いただきますので、講演後にできなかった質問等に活用ください。また、講師ごとのブレイクアウトルームも設ける予定ですので、個別の質問や参加者同士の交流を深め、人脈を広げる機会としてもご利用いただければ幸いです。

日 時 :
2022年8月25日(木)-26日(金) 9時30分~17時40分
 
オンライン開催(Zoom)
協 賛 :
(社)日本化学会

[参加費]
会員:18,000円(4名以上参加の場合は一律65,000円/会員企業)
日本化学会会員:18,000円
非会員:28,000円、学生:8,000円

[参加申込]
当ホームページ(http://www.tapj.jp)のメールフォームからお申し込み下さい。
受付後、事務局より参加方法についてご連絡いたします。
※テキストはメールフォームによる申し込み者にのみPDF配信いたします。

[締め切り]
2022年8月10日(水)

[注意事項]
4名以上参加の場合は、代表者がフォームメールでお申し込みいただき、特記事項欄に参加者全員の氏名ならびにメールアドレスを記入してください。また不特定多数での聴講や、講習会の録画・撮影・録音はご遠慮くださいますようお願いいたします。


プログラム

【基礎編】 8月25日(木)第1日目
9:30
 ~9:35
会長挨拶
9:35
 ~11:00
「フォトポリマーの光化学」
大阪公立大学 岡村 晴之 氏
フォトポリマーについて考えるためには、一般的な光化学の概念を基礎とするも、その他に有機化学や生化学の概念も必要となってくる。本講演では、光吸収や分子の励起、エネルギーや電子の移動、増感反応等基礎的な光化学と、それらを実際にフォトポリマーに活用した幾つかの具体例を解説する。
<キーワード>光吸収、励起状態、反応中間体、増感反応
休憩(10分)
11:10
 ~12:35
「フォトポリマーの材料設計」
信州大学 上野 巧 氏
感光性材料をパターン転写のために用いる場合と永久膜として用いる場合ではその材料設計が異なる。塗布、露光、現像 などのプロセスにおける留意点を解説し、感光材料の設計を考察する。また高感度、高解像度のパターンを得るために重要な光化学反応、現像プロセスについても解説する。
<キーワード>露光、現像、光化学反応、感度、解像度
休憩
13:30
 ~15:00
「光酸発生剤の基礎」
サンアプロ(株) 柴垣 智幸 氏
光酸発生剤は、カチオン重合および半導体デバイス製造のための化学増幅型フォトレジスト等、各種産業上の種々の用途に用いられているが、それら用途によって、適応する光酸発生剤も異なってくる。本講演では、光酸発生剤の分類・反応、それぞれの応用で要求される特性、および組成物の性能を最適化するための光酸発生剤の選択について紹介する。
<キーワード>光酸発生剤、カチオン重合開始剤、コーティング、フォトレジスト、カチオン重合、脱保護
休憩(10分)
15:10
 ~16:40
「フォトポリマーの特性評価」
リソテックジャパン(株) 関口 淳 氏
フォトポリマーを設計、開発、使用するうえで、あるいはその材料を扱ううえで必要な特性評価について概説する。膜厚、光量の測定、フォトレジストのリソグラフィ特性、過渡吸収と活性種同定、膜の諸物性、化学反応速度論と量子収率まで幅広い範囲の項目をほぼ網羅する。
<キーワード>化学増幅型レジスト、感度、解像度、反応メカニズム、溶解抑制剤、酸発生剤
16:40
 ~17:10
第1日目の総括討議 / 講師ごとのブレイクアウトルーム

【応用編】 8月26日(金)第2日目
9:30
 ~10:45
「微細加工用レジストと先端リソグラフィー技術」
兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
LSIの微細加工は、レジスト材料の発展によって支えられてきた。本講演では、レジスト材料開発の歴史と、波長別レジスト材料について述べる。
<キーワード>ノボラックレジスト、KrFレジスト、ArFレジスト、EUVレジスト、自己組織化
休憩(10分)
10:55
 ~12:10
「コーティング分野におけるモノマーとフォトポリマーの役割と設計思想」
荒川化学工業(株) 冨樫 春久 氏
光硬化を利用したコーティングはディスプレイや光学フィルムを製造する際に欠かせない技術である。重合活性基を有する様々なモノマーと、それらを編成したオリゴマー、光開始剤の特性と基本的な組み合わせ例を紹介する。
<キーワード>紫外線硬化、アクリルモノマー、アクリルオリゴマー、応力緩和、機能性コーティング
休憩
13:10
 ~14:30
「感光性耐熱材料の最近の進歩」
東レ(株) 富川 真佐夫 氏
感光性ポリイミド、感光性ポリベンゾオキサゾール(PBO)はファンアウト型パッケージの再配線材料への展開が進められている。ここでの銅配線との密着、マイグレーション耐性、高温放置耐性、低温硬化に向けた取り組みなどについて紹介する。さらに、低誘電率化・低誘電損失化などの今後の開発動向についても解説する。
<キーワード>ポリイミド、PBO、銅配線、マイグレーション耐性、高温放置耐性、低誘電損失
休憩(10分)
14:40
 ~16:00
「光硬化型接着剤および光アニオン硬化の接着剤への活用」
(株)スリーボンド 大槻 直也 氏
アニオンUV硬化を中心に、ラジカル、カチオン、アニオンUV硬化の原理および接着剤分野におけるそれぞれの硬化方法の長所と短所を解説する。また、スリーボンド社の製品を中心に、各硬化方法を利用した種々の接着剤製品を紹介する。
<キーワード>光硬化、ラジカル、カチオン、アニオン、接着
休憩(10分)
16:10
 ~17:10
「トピックス マテリアルズインフォマティクスの基礎」
長瀬産業(株) 折井 靖光 氏
今後、企業等に長年蓄積されたビッグデータを知識化して、材料開発の効率化や革新的素材開発につなげていく MI技術 をわかりやすく解説する。長瀬産業が開発したMIプラットフォームで何ができるか紹介する。また、AI時代の半導体技術の展開と材料開発の重要性について俯瞰する。
<キーワード>マテリアルズ・インフォマティクス、AI、コグニティブアプローチ、アナリティクスアプローチ、MI プラットフォーム
17:10
 ~17:40
第2日目の総括討議 / 講師ごとのブレイクアウトルーム
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《第250回講演会》

日 時 :
2022年10月21日(金)13:00~16:50
会 場 :
大阪公立大学文化交流センター
〒530-0001 大阪市北区梅田1-2-2-600 大阪駅前第2ビル6階
テーマ :
『光レジスト材料の基礎と応用』

[要旨]
レジスト原料の合成、レジスト材料の合成・評価、最終的にはレジスト剥離まで、フォトポリマー材料に関する最新の研究開発について4件の講演を企画しました。久しぶりの対面での大阪開催になります(予定)。ぜひ対面での熱いディスカッションを祈念しております。

[参加費]
会 員 : 2名まで無料(3人目からは3,000円)
非会員 : 3,000円  学生 : 2,000円
(2022年10月13日(木)までにお振り込みください)
テキストはダウンロード形式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください(10月13日(木)締切)。


【プログラム】
1.
13:00
 ~13:50
「原子状水素アニールによるポリマーの表面改質」
兵庫県立大学 部家 彰 氏
水素ガスを加熱触媒体(1700 ℃程度)で接触分解させることで高密度原子状水素を生成できる。この原子状水素の還元反応と再結合反応エネルギー(4.5 eV)を利用した表面改質法を原子状水素アニール(AHA)と命名し、各種材料への応用を検討している。本講演では、AHAによるポリマー材料の表面改質について紹介する。
<キーワード>原子状水素、表面改質、ポリマー材料
【 13:50~14:00 休憩(10分) 】
2.
14:00
 ~14:50
「レーザー照射を用いたレジスト除去技術の開発」
大阪工業大学 神村 共住 氏
水中環境下でSiウェハーに塗布されたレジストに可視レーザー光を照射すると、Siウェハーからレジストが剥離する。レジスト表面から除去する従来技術とは異なりレジストを剥離できる新しい技術です。本講演では、レーザー照射を用いたレジスト剥離とさらにオゾン水処理を組み合わせた除去技術について紹介いたします。
<キーワード>レーザー照射、レジスト剥離、オゾン水処理
【 14:50~15:00 休憩(10分) 】
3.
15:00
 ~15:50
「ポリグリセリン系アクリレートの機能紹介」
阪本薬品工業(株) 宮路 由紀子 氏
ポリグリセリン系アクリレートは、1分子内にポリグリセリン構造とアクリロイル基を有する多官能アクリレートです。我々が開発したポリグリセリン系アクリレートは、ネットワーク形成においてはソフトセグメントとして作用し、これまでの多官能アクリレートには見られない機能を備えています。本講演では、ポリグリセリン系アクリレートの塗膜物性をご紹介いたします。
<キーワード>多官能アクリレート、柔軟性、速硬化
【 15:50~16:00 休憩(10分) 】
4.
16:00
 ~16:50
「i線用厚膜化学増幅型3成分レジストの開発」
大阪公立大学 堀邊 英夫 氏
半導体、液晶デバイスの高密度化は著しい速度で進んでおり、より微細なパターンを短時間で加工するには、高解像度・高感度のフォトポリマー(レジスト)の開発が重要です。具体的には、i線用厚膜化学増幅型3成分レジスト(ベース樹脂、溶解抑制剤、酸発生剤)の開発について、溶解抑制剤の化学構造の観点から報告させて頂きます。私自身は、大学に異動する前に勤務した電機メーカでは、16MDRAM用i線ノボラック系ポジ型レジスト、64MDRAM用KrF化学増幅型レジストの材料・プロセス開発に携わりました。
<キーワード>i線用厚膜レジスト、化学増幅型3成分レジスト、溶解抑制剤、i線用ノボラック系ポジ型レジスト、KrF用化学増幅型レジスト
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《第251回講演会》

日 時 :
2022年12月8日(木)13:00~16:50
会 場 :
オンライン(Zoom)での開催
テーマ :
 『ライフサイエンスを支える機能材料』(有機エレクトロニクス材料研究会共催)

[要旨]
フォトポリマー材料の分野においても社会、市場のニーズに応える新材料、新技術の研究開発が進んでいます。今回、バイオマテリアルやヘルスケア材料などライフサイエンスに関連する機能材料についての4件の講演を企画しました。

[参加費]
会 員 : 無料(オンライン開催は人数制限なし)
非会員 : 3,000円  学生 : 2,000円
(2022年12月1日(木)までにお振り込みください)
テキストはダウンロード形式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください(12月1日(木)締切)。


【プログラム】
1.
13:00
 ~13:50
「生物多様性の中で見いだされた、UV接着材料としてのドーパミンアクリルアミド」
大阪有機化学工業(株) 赤石 良一 氏
接着における生物多様性に関して、トカゲの脚裏、野生のゴボウの実、ムール貝の足糸など様々な機構が存在する。ムール貝において、カテコール基を有するL-ドーパは、重要な接着成分である。我々は、L-ドーパそして、L-ドーパの化学進化を経た生体模倣モノマーであるドーパミンアクリルアミド(DopAm)に着目した。環境にやさしい、無溶媒系UV硬化反応において、興味深いことに、モノマー組成に少量のDopAmを加えると、材料への表面密着性や異種材料間の粘・接着性が向上した。これら特性と応用の可能性について紹介する。
<キーワード>UV硬化、接着性、ドーパミンアクリルアミド、生体模倣
【 13:50~14:00 休憩(10分) 】
2.
14:00
 ~14:50
「生体適合性ポリマーの新展開」
(株)日本触媒 中田 善知 氏
生体適合性発現のメカニズムとして「中間水コンセプト」が注目されている。中間水コンセプトの概略と、中間水コンセプトを用いた日本触媒における生体適合性ポリマーの開発について紹介する。また、多くの中間水を有し、優れた生体適合性が注目されているGLMA系ポリマーの特徴と、いくつかの応用例、さらに架橋技術と組み合わせた機能化などのトピックスについても紹介する。
<キーワード>生体適合性、中間水、不凍水、抗血栓性、GLMA
【 14:50~15:00 休憩(10分) 】
3.
15:00
 ~15:50
「生体親和性を指向した機能性重合材料」
富士フイルム(株) 菅﨑 敦司 氏
富士フイルムはフォトポリマーに代表される数多くの機能性重合材料(モノマー)を主に自社製品向けに開発してきた。近年、これらの機能性重合材料を化成品(開発品)として世の中に提案しながら、新たな価値創出の可能性を模索している。本講演では、富士フイルムが開発した機能性重合材料について、(1)基本物性、(2)生体親和性を指向した新たなバイオマテリアルとしての興味深いポテンシャル特性、の2点について紹介する。
<キーワード>親水性多官能モノマー、架橋高分子、バイオマテリアル、抗血栓性、がん細胞接着性
【 15:50~16:00 休憩(10分) 】
4.
16:00
 ~16:50
「歯科治療と口腔ケアに光反応で貢献する歯科用高分子材料」
サンメディカル(株) 山本 隆司 氏
1940年代初頭にドイツでMMAを重合させてう蝕(ムシ歯)を除去した歯の窩洞に充填する方法が発明されて以来、世界中の歯科治療に高分子が利用され始めた。メタクリレートモノマーを光重合で硬化させる手法は1980年代に急速に普及し始め、ハンディタイプの可視光線照射器の開発によって瞬く間に、う蝕の治療方法と接着材料が進歩し、現在では世界的スタンダードとなっている。光反応性高分子およびその技術が歯科治療と口腔ケアにどのように貢献してきたか、関連する製品の特性を示しながら光反応技術の有用性を異なる分野の研究技術者間で共有し、次世代に向けた技術進歩の行方を議論する。
<キーワード>歯科、高分子材料、光重合、接着材料、バイオマテリアル

フォトポリマー懇話会の活動写真