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会告

《平成29年度総会》

日 時 :
2017年4月20日(木)13:00~13:20
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
議 事 :
1.平成28年度事業報告承認の件
2.平成28年度収支決算ならびに年度末貸借対照表承認の件
3.平成29年度事業計画および予算案承認の件
4.その他

《第220回講演会》

日 時 :
2017年4月20日(木)13:30~17:00
会 場 :
森戸記念館(東京理科大学)
テーマ :
『次世代リソグラフィ技術の展開』

[趣旨]
次世代リソグラフィ技術とそこに展開するフォトポリマーとの係わりについて、3件の講演を企画した。現行リソグラフィの延長線上にあるEUVリソグラフィ、ナノインプリントリソグラフィおよび自己組織化(DSA)技術について概説していただく。

[参加費]
会 員 : 1社2名まで無料(要、会員証呈示)
非会員 : 3,000円(当日受付にて)  学生 : 2,000円

[参加申込]
当ホームページのメールフォーム、またはFAXにて事務局(043-290-3460)まで。

【プログラム】
13:30~14:30 「EUVリソグラフィの課題と今後の展開」 兵庫県立大学 渡邊 健夫 氏
EUVリソグラフィについて、ハードウェア(露光機)、プロセスおよびマスク、レジスト材料など量産適用のための技術開発が進められているが、光源開発などのさらに改良が必要な課題も残されている。このような状況の中で、技術開発の現状について概説していただく。
<キーワード>半導体微細加工技術、EUVリソグラフィ、レジスト、マスク、放射光科学
14:30~14:40 休 憩(10分)
14:40~15:40 「半導体量産用ナノインプリントリソグラフィ技術の開発」 キヤノン(株) 伊藤 俊樹 氏
20nm以下の微細パターン形成技術として、半導体量産用のナノインプリント技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。該社が開発を進めている半導体量産用のナノインプリント技術とそれに必要なレジスト材料について、最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただく。
<キーワード>imprint lithography, J-FIL, photoresist, overlay, throughput, defectivity, particle
15:40~15:50 休 憩(10分)
15:50~16:50 「自己組織化(DSA)技術の最前線」 名古屋大学 高野 敦志 氏
20nm以下の微細パターン形成技術として、自己組織化(DSA)技術が注目されている。量産化に向けてハードウェア、材料およびプロセスの開発が精力的に進められている。最近の研究動向、将来展望などを含めて概説していただく。
<キーワード>ブロック共重合体、ミクロ相分離構造、ガイドパターン、設計テンプレート、ハーフピッチ
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《協賛講演会》 =第151回ラドテック研究会講演会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2017年4月27日(木)13:00~16:40
場 所 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館 17階/記念講堂
<講師と演題>
(1) 13:00~13:50
「樹脂界面の接着と残留応力」 神戸大学大学院 西野 孝 氏
(2) 13:50~14:40
「光重合を用いた多成分系ポリマーブレンドの相分離制御:現状と展望」 京都工芸繊維大学 宮田 貴章 氏
14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(3)15:00~15:50
「NIR(近赤外光)に感光する開始剤とこれを用いたフォトポリマーへの応用」 サンアプロ株式会社 白石 篤志 氏
(4) 15:50~16:40
「日本のUV/EB技術と市場の概観」 JSR株式会社 小宮 全 氏
◆17:00~18:30
交流会・ミニ展示会 大会議室にて

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2017年3月23日(木)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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《協賛講演会》 =第152回ラドテック研究会講演会=

主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
期 日 :
2017年6月16日(金)13:00~16:40
場 所 :
大阪市立工業研究所/大講堂
<講師と演題>
(1) 13:00~13:50
「ポリイミド膜表面の露光部選択的修飾」 久留米高等専門学校 津田 祐輔 氏
(2) 13:50~14:40
「磨砕応答色素を用いたコンポジット薄膜の作製と機能発現」 兵庫県立大学大学院 近藤 瑞穂 氏
14:40 ~ 15:00 ♪♪♪♪♪ コーヒーブレイク ♪♪♪♪♪
(3)15:00~15:50
「新規光重合開始剤の開発」 日本合成化学工業株式会社 青木 康浩 氏
(4) 15:50~16:40
「ポリグリセリン骨格を有する多官能アクリレートモノマーの特性」 阪本薬品工業株式会社 名田 智美 氏

[1.参 加 費]
個人会員(本人) : 無料
法人会員 : (2名まで)無料  3名から1名10,000円
非会員 : 1名20,000円
協賛団体所属の方 : 10,000円
注 ・上記参加費には、講演要旨集1冊を含みます。

[2.申込締切日]
2017年5月19日(金)

[3.問合せ先]
一般社団法人ラドテック研究会事務局
〒102-0082 千代田区一番町23-2 番町ロイヤルコート207
TEL:03-6261-2750 FAX:03-6261-2751
E-mail:staff@radtechjapan.org

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