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《第２７０回講演会》

日　時 ：
２０２６年６月１１日（木）１３：００～１７：００
会　場 ：
オンライン開催（Zoom）
テーマ ：
『光反応開始剤の新展開』

[趣旨]
電子材料、印刷、接着、医療など幅広い産業に利用されるフォトポリマーは、社会や市場のニーズに応えるため、より高度な機能や技術が求められております。そのため、新しい光反応開始剤に関する技術も次々に提案され、基礎検討や実用化が進められています。今回、「光ラジカル開始剤、光酸発生剤に関する新技術」についての4件の講演を企画しました。

[参加費]
会　員 ： 無料（オンライン開催は人数制限なし）
非会員 ： ３,０００円　　学生 ： ２,０００円　
（6月4日（木）までにお振り込みください）
テキストはダウンロード方式とします。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください。
（6月4日（木）締切）


【プログラム】
１.
13：00
　～13：50		 「Development trend of Photoinitiators」
IGM Resins (Shanghai) Management Co., Ltd Zhenhua Liu　氏
For the development trajectory, the primary driving forces are sustainability and performance. We anticipate a decisive shift toward LED-curable systems, demanding novel photoinitiators efficient under low-intensity, long-wavelength UV/VIS light. Concurrently, regulatory pressure is fueling the rapid development of non-migrating, polymerizable, and odorless photoinitiators to enhance product safety. Furthermore, bio-based and renewable raw materials are emerging to reduce environmental impact. In advanced applications, such as 3D printing and electronics, the need for high-precision and functional photoinitiators will intensify. The future belongs to intelligent, green, and high-value solutions that align with global sustainable development goals.
＜キーワード＞Photoinitiators, non-migrating, selfcurable, polymeric photoinitiator
【　休憩（10分） 】
２.
14：00
　～14：50		 「光カチオン重合開始剤について最近の進歩」
サンアプロ（株）研究所 白石 篤志　氏
光カチオン重合に用いる光酸発生剤では、アニオンの選択が重要である。しかし従来のアニオンは、反応性を左右する酸強度、硬化樹脂の熱黄変、ＰＦＡＳ規制や毒劇物規制への対応など課題が多く、同時に両立させるのは困難であった。当社はこれらを満たす新規ガリウム系アニオン（ガレートアニオン）型光酸発生剤を開発した。本講演では光酸発生剤の基本的な説明とともに新規光酸発生剤の特徴について解説します。
＜キーワード＞PFAS、ガレートアニオン、耐熱黄変、光カチオン重合開始剤、カチオン重合
【　休憩（10分） 】
３.
15：00
　～15：50		 「フォトクロミック分子を利用した光酸・光ルイス酸発生剤の新展開」
奈良先端科学技術大学院大学 河合　壯　氏
半導体プロセスや光硬化樹脂など多様なフォトポリマーシステムの基盤となる光酸発生剤について検討が進められてきた。従来の非イオン系酸発生剤はポリマーやモノマーとの相溶性が高く、反応感度の向上や酸の拡散抑制など様々な高機能化が進められてきた。最近われわれは一層の高機能化を目指しペリ環状反応をトリガーとする光酸発生剤や光ルイス酸発生剤を提案してきた。本講演ではこれらを中心に、ナフトキノン系光酸発生剤も含めた最近のアプローチについてさせていただきます。
＜キーワード＞フォトクロミックPAG, 光ルイス酸発生（PLAG）, 超連鎖反応分子
【　休憩（10分） 】
４.
16：00
　～16：50		 「金属錯体を活用した光酸発生剤の可視光感光性制御の新展開」
大阪公立大学 小玉 晋太朗　氏
可視光を吸収する金属錯体を光酸発生剤（PAG）の分子内に組み込むことにより、可視光感光性をPAGに迅速かつ簡便に付与できる。さらに、金属中心と配位子の組み合わせにより吸収波長や酸生成効率を精密に制御する手法は、従来型の紫外光感光性PAGとは異なる新しい設計指針を提供する。本講演では、金属錯体型PAGの分子設計、合成、および物性評価を中心に、可視光化がもたらす化学的意義と光反応開始剤の将来展開について、最新の研究成果を交えて紹介する。
＜キーワード＞金属錯体, 可視光感光性光酸発生剤, 波長選択的光反応
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《協賛講演会》 ＝第１９５回ラドテック研究会講演会＝

期　日 ：
２０２６年６月１９日（金）１３：００～１６：００
会　場 ：
早稲田大学内コマツ100周年記念ホール
主　催 ：
一般社団法人ラドテック研究会
【プログラム】
１.
13：00
　～13：55
質疑応答含む		 「フォトレドックス触媒作用：その原理と発展の経緯」
東京科学大学　リサーチディヴェロップメント機構 穐田 宗隆　氏
２.
13：55
　～14：50
質疑応答含む		 「半導体の三次元実装に向けたファインピッチ再配線材料の開発」
太陽ホールディングス株式会社 石川 信広　氏
【　14：50～15：05 　休憩　】
３.
15：05
　～16：00
質疑応答含む		 「光重合開始剤の概要と選定方法について」
株式会社ADEKA 有吉 智幸　氏
●16：00～17：00 　総　　　会
●17：30～19：00 　懇　親　会

※プログラムは変更になる場合がございます

[１．参 加 費]
10,000円（協賛団体ご所属の方）

[２．お申込み]
下記リンク先よりお申込みください。
第195回ラドテック研究会講演会（2026/06/19） | 一般社団法人ラドテック研究会
https://radtechjapan.org/2026-6-19/

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《第２７１回講演会》

日　時 ：
２０２６年６月２３日（火）１３：００～１８：２５
会　場 ：
アクリエ姫路　中ホール（〒670-0836　兵庫県姫路市神屋町143-2）
およびZoomでのハイブリッド開催
テーマ ：
『EUVメカニズム・PFASフリーサスティナビリティー・3Dインテグレーション』
（フォトポリマー学会共催）（英語講演）

[趣旨]
半導体業界の人材育成の一環として、リソグラフィーのトピックスを学ぶ機会を提供する機会をフォトポリマー学会共催で企画した。

[参加費]

会　員 ：
会場参加の場合1企業につき2名まで無料。3名以上は1名につき3,000円
オンライン参加の場合は無料（人数制限なし）
非会員 ：
３,０００円
学　生 ：
２,０００円

6月16日（火）までにお振込みください。なお、テキストの配布はありません。

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください。

[締め切り]
２０２６年６月１６日（火）


プログラムは
（https://smartconf.jp/content/icpst-43/tutorial）でもご覧いただけます。

【プログラム】
13：00
　～13：05		 「Opening remark from SPST」
兵庫県立大学 渡邊 健夫　氏
13：05
　～13：10		 「フォトポリマー懇話会から開会の辞」
大阪公立大学 堀邊 英夫　氏
１.
13：10
　～14：40
（講演90分）		 「Introduction to EUV Lithography」
HJL Lithography Dr. Harry Levinson　氏
【　14：40～14：55　休憩（15分） 】
２.
14：55
　～15：25
（講演30分）		 「EUV Mechanism (TBD)」
State University of New York, USA Prof. Robert rainard　氏
３.
15：25
　～15：55
（講演30分）		 「Using Resist Lithographic Responses to Map the Projected Image for Material Evaluation and Process Design）」
imec Dr. John Peterson　氏
４.
15：55
　～16：25
（講演30分）		 「PFAS Free Sustainability」
メルクエレクトロニクス（株） 片山　朋英　氏
【　16：25～16：40　休憩（15分） 】
５.
16：40
　～17：10
（講演30分）		 「Advanced Packaging Materials and Co-Creative Evaluation Platforms at Resonac」
（株）レゾナック 加藤 禎明　氏
６.
17：10
　～17：40
（講演30分）		 「Photopolymers Enabling Fine-Pitch Cu RDL Damascene: Materials, Process, and Integration」
太陽ホールディングズ（株） 緒方 寿幸　氏
７.
17：40
　～18：20
（講演40分）		 「Why Are Photosensitive/Non-Photosensitive Polymers Important in Advanced Semiconductor Packaging?」
東北大学 福島 誉史　氏
18：20
　～18：25		 「閉会の辞」
ASML Japan 永原 誠司　氏
18：30
　～20：00		 懇親会（無料）

フォトポリマー懇話会の活動写真