トップページ > 会告  

会告

《第259回講演会》

日 時 :
2024年6月13日(木)13:00~17:00
会 場 :
オンライン開催(Zoom)
テーマ :
『パターニング材料・技術の新展開』

[趣旨]
電子材料、印刷、接着、医療など幅広い産業に利用されるフォトポリマーは、社会や市場のニーズに応えるため、より高度な機能や技術が求められております。そのため、新しいパターニングや光応答性材料に関連する技術も次々に提案され、基礎検討や社会実装に向けたアプローチが進められています。今回、「ナノ結晶パターニング、偏光UVアシスト蒸着重合、光細胞操作、プリンテッドエレクトロニクス」に関する新技術についての4件の講演を企画しました。

[参加費]
会 員 : 無料(オンライン開催は人数制限なし)
非会員 : 3,000円  学生 : 2,000円 (6月6日(木)までにお振り込みください)
テキストはダウンロード形式とします

[参加申込]
当ホームページのメールフォームからお申し込みください(2024年6月6日(木)締切)。


【プログラム】
1.
13:00
 ~13:50
「モノマーの光重合によるナノ結晶のパターニング」
京都工芸繊維大学 中西 英行 氏
近年、合成技術の発達により、様々な機能を持った金属や無機のナノ結晶が合成されるようになった。それらの機能を有効に利用するためには、ナノ結晶をパターニングすることが必要となる。素材をパターニングする方法は既に数多くあるが、最近、講演者らは、これまでの技術とは異なったやり方で、ナノ結晶をポリマーフィルムにパターニングする方法を独自に研究・開発してきた。本講演では、講演者らが提案するパターニング方法の原理や特長、課題について、わかりやすく紹介したい。
<キーワード>金属・無機ナノ結晶、光硬化性樹脂、パターン光照射、重合反応
【 休憩(10分) 】
2.
14:00
 ~14:50
「偏光UVアシスト蒸着重合による螺旋配向高分子半導体薄膜」
静岡大学 久保野 敦史 氏
真空中で加熱気化させたモノマーを基板上で反応させることで高分子薄膜を作製する蒸着重合法を応用し、成膜時に偏光紫外光をさせることで光異性化を生じさせて高度に配向された高分子薄膜を作製することができる。この偏光UVアシスト蒸着重合法を用いて、成膜時に偏光方向を変化させることで螺旋配向したポリアゾメチン薄膜の作製を試みた。円二色性スペクトル等の解析から、任意の螺旋の向きを有する薄膜をこの手法で作製できることが明らかになった。
<キーワード>高分子薄膜、蒸着重合、偏光紫外光、螺旋構造、CDスペクトル
【 休憩(10分) 】
3.
15:00
 ~15:50
「フォトポリマーが拓く新しい光細胞操作技術」
産業技術総合研究所 須丸 公雄 氏
光は、対象に対して局所的・遠隔的・即時的に作用させることができる優れた制御手段である。近年の光エレクトロニクスの急速な伸展と産業化によって、光制御とはこれまであまり縁のなかった化学やバイオの分野においても、こうした発想に基づく新しい技術の開発が活発に進められてきている。本講演では、光水溶化や光ゾル-ゲル転移をはじめとする様々な光応答物性変化を有するポリマー材料と、光細胞操作技術を含むそれらのバイオ応用について、我々の研究を中心にご紹介させていただきたい。
<キーワード>光細胞操作、光水溶化、光ゾル-ゲル転移
【 休憩(10分) 】
4.
16:00
 ~16:50
「プリンテッドエレクトロニクスの新展開」
物質・材料研究機構 三成 剛生 氏
プリンテッドエレクトロニクスでは、これまで主に使われていた銀ナノ粒子インクから、銅をベースとした金属インクへと転換期を迎えている。物質・材料研究機構で開発し、NIMS発ベンチャー企業プリウェイズから社会実装を進めている新材料・技術について報告する。
<キーワード>プリンテッドエレクトロニクス、金属ナノ粒子インク、金属錯体インク
会告

《協賛講演会》 =第185回ラドテック研究会講演会=

期 日 :
2024年6月14日(金)13:00~16:00
会 場 :
東京理科大学神楽坂キャンパス1号館 17階 記念講堂
主 催 :
一般社団法人ラドテック研究会
【プログラム】
1.
13:00
 ~13:40
質疑応答含む
「光架橋反応により創成される有機無機ハイブリッド材料の機能性と応用」
京都工芸繊維大学 松川 公洋 氏
2.
13:40
 ~14:20
質疑応答含む
「有機/無機エピタキシャル界面の創出と機能化」
大阪公立大学 髙橋 雅英 氏
【 14:20~14:40  休憩 】
3.
14:40
 ~15:20
質疑応答含む
「パルス紫外光を用いるセラミックス薄膜の光結晶成長と界面制御技術」
産業技術総合研究所 中島 智彦 氏
4.
15:20
 ~16:00
質疑応答含む
「光硬化用の新材料の開発と応用」
TRONLY株式会社 張 学龍 氏
●16:00~17:00  定時社員総会
●17:00~18:30  懇  親  会

※プログラムは変更になる場合がございます

[1.参 加 費]
10,000円(協賛団体ご所属の方)

[2.お申込み]
研究会HP(http://www.radtechjapan.org/20240614/)よりお申し込み下さい。

フォトポリマー懇話会の活動写真